CZA-4N/Oczyszczacze gazów bezczynnych z serii FX

Seria CZA-4N/FX
Zasada oczyszczacza gazów bezczynnych polega na wykorzystaniu adsorbentów stopowych w wysokiej temperaturze, które mogą reagować z zanieczyszczeniami, takimi jak tlen, azot, woda, dwutlenek węgla i węglowodory, tworząc właściwości stabilnych związków lub stałych rozpuszczali, aby usunąć wyżej wymienione zanieczyszczenia z gazów bezczynnych, takich jak argon, heli, radon, ksenon, aby osiągnąć cel oczyszczenia, wysoko czysty gaz uzyskany po oczyszczeniu jest szeroko stosowany w analizie i badaniach naukowych w półprzewodnikach, elektroniki, metalurgii, produkcji baterii litowych, włóknach optycznych i innych sektorach przemysłowych.
Cechy produktu
n głębokie oczyszczenie, nie tylko usunięcie O₂Bardziej aktywne zanieczyszczenia, a także można usunąć N₂inne zanieczyszczenia bezczynne, które ogólnie nie mogą być oczyszczone;
n Ten oczyszczacz jest konstrukcją podwójnej wieży, jeden zestaw pracy, drugi zestaw zapasowy, używany przez górne dwie oczyszczarki;
Niższa temperatura pracy, mniejsze zużycie energii.
Oczyszczacze z tej serii są wyposażone w wieżę wstępno oczyszczającą, która usunęła bardziej aktywne zanieczyszczenia przed wieżą adsorpcyjną stopu, dzięki czemu znacznie wydłuża żywotność wieży adsorpcyjnej stopu
Parametry techniczne

Nazwa urządzenia	Typ urządzenia	Sposób pracy	Uwaga
Oczyszczacze gazów bezczynnych	CZA-4N	Półautomatyczny	Ar
	FX□-Z	Półautomatyczny	Wybierz Ar, He, Xe, Ke lub Ne
Wymagania gazu Ar、He	Czystość	≥99,99% czysty argon w butelkach, ciekły argon
	Wymagania dotyczące zanieczyszczeń	O2≤200PPm, H2O≤1000PPm，N2≤100PPm
Wyjście gazu czystego	Czystość	≥99.9999%
	Zawartość zanieczyszczeń	O2≤0.5PPm； N2≤0.5PPm； H2O≤1PPm (to znaczy punkt rosy≤-76 ℃); CO+CO2≤0.1PPm； Liczba cząstek pyłu (≥ 0,3 μm) 3-5 sztuk / l
Ciśnienie robocze	0～1.0MPa
Obróbka powietrza	1～4Nm3/h
Uwaga	Można zaprojektować i produkować zgodnie z wymaganiami użytkownika